纳米级抛光液_陶瓷_晶体_蓝宝石_半导体专用

标题名称：

纳米级抛光液 蓝宝石陶瓷晶体50 80 100 120

详细说明：

纳米级抛光液主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英、光学晶体、金属、陶瓷等的抛光。

应用领域

l 不锈钢、铝件、锌合金件的抛光

l LED蓝宝石衬底、晶体、宝石件的抛光

l 光学镜头、镜片、光学玻璃、石英件的抛光

l 磁头、硬盘件的抛光

l 光纤及光伏的抛光

l陶瓷抛光

标题名称：半导体专用抛光液

详细说明：

主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化镓、碳化硅、单晶硅、多晶硅、铌酸锂、碳酸锂、硫系红外玻璃珠中抛或精抛。

常规包装：

25KG/桶

储存方式：

存放温度为5°C~30°C，常规温度25°C，避免阳光照射

保质期限：

弱碱性抛光液保质期限为1年

稀释比例：

稀释需要去离子或蒸馏水，建议稀释比例1:1~1:5

标题名称：硫系红外玻璃球专用抛光液

详细说明：

主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化镓、碳化硅、单晶硅、多晶硅、铌酸锂、碳酸锂、硫系红外玻璃珠中抛或精抛。

常规包装：

25KG/桶

储存方式：

存放温度为5°C~30°C，常规温度25°C，避免阳光照射

保质期限：

弱碱性抛光液保质期限为1年

稀释比例：

稀释需要去离子或蒸馏水，建议稀释比例1:1~1:5

标题名称：锗片专用抛光液

详细说明：

主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化镓、碳化硅、单晶硅、多晶硅、铌酸锂、碳酸锂、硫系红外玻璃珠中抛或精抛。常规包装：

25KG/桶

储存方式：

存放温度为5°C~30°C，常规温度25°C，避免阳光照射

保质期限：

弱碱性抛光液保质期限为1年

稀释比例：

稀释需要去离子或蒸馏水，建议稀释比例1:1~1:5